高纯气体是指纯度大于99.999%的气体，这类气体通常被用于半导体、电子、医药等高端应用领域。由于高纯气体的应用要求极高的纯度，因此需要一套严格的纯度标准来保证其质量和性能。本文将介绍高纯气体的纯度标准。

　　高纯气体的纯度可以用不同的指标来表示，这里我们主要介绍以下几种指标：

　　体积纯度

　　体积纯度是指气体中所含的目标成分占总体积的百分比。通常以“xxxvol%”（xxx为目标成分的百分比）的形式表示。例如，99.999%的氧气表示氧气占气体总体积的99.999%。

　　质量纯度

　　质量纯度是指气体中所含目标成分的质量除以总质量的百分比。通常以“xxxwt%”（xxx为目标成分的质量百分比）的形式表示。例如，99.999%的氧气表示氧气占气体总质量的99.999%。

　　杂质含量

　　气体中的杂质是指与目标成分不同的其他气体、液体、固体等化合物和杂质元素。杂质含量是指气体中除目标成分外的全部成分的百分比，通常以“ppm”（百万分之一）或“ppb”（十亿分之一）为单位。例如，氧气中的杂质含量为10ppm表示氧气中杂质的数量占气体总体积的万分之一。

　　基底金属含量

　　高纯气体制备的过程中，气体往往会与容器接触，因此容器的基底金属（如铜、不锈钢等）可能会成为杂质。基底金属含量是指气体中基底金属的含量，通常以“ppt”（万亿分之一）或“ppq”（十万亿分之一）为单位。例如，氧气中的铜含量为1ppt表示氧气中铜的数量占气体总体积的万亿分之一。

　　高纯气体的纯度标准通常由业内标准、国际标准和用户需求等方面综合考虑。以下是常见的几种高纯气体的纯度标准：

　　电子级气体标准

　　电子级气体是指用于半导体制造、平板显示器等电子器件生产的高纯气体。其纯度标准通常按照国际半导体工业协会（SEMI）制定的标准来执行，其中主要指标为体积纯度、杂质含量和基底金属含量。以氧气为例，电子级氧气的标准为99.9999%的体积纯度，杂质含量为1ppm以下，基底金属含量为ppt以下。

　　医用气体标准

　　医用气体是指用于临床医学应用的高纯气体。其纯度标准主要按照欧洲药典、美国药典等医药行业标准执行。主要指标为体积纯度、杂质含量和微生物含量。以氧气为例，医用氧气的标准为99.5%以上的体积纯度，杂质含量为0.1%以下，微生物含量为每立方米不超过10个。

　　分析用气体标准

　　分析用气体是指用于科研和分析测试等应用的高纯气体。其纯度标准通常由用户需求和应用要求决定，可能采用严格的化学分析方法来检测纯度。以氧气为例，分析用氧气的标准可能要求99.999%以上的体积纯度，杂质含量为ppm以下。

　　总之，高纯气体的纯度标准是由多种因素共同决定的，其中各种指标相互联系，需要综合考虑。在制备高纯气体时，需要采用严格的制备工艺并对气体进行有效的纯化与检测，以达到所需的纯度标准。